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EDI超純水設備
產品詳情

產品概述:

EDI超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物資、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備,一般用于電子光學行業生產用水,如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模集成電路等生產用水需求.


EDI超純水設備特點:
1、系統工藝先進、水質穩定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環保、維護方便。

2、處理后可生產出水電阻率可達到18.2兆的超純水。

3、整體化程度高,易于擴展,增加膜數即可增加處理量。

4、自動化程度高,遇到故障立即自停,具有自動保護功能。

5、先進的膜保護系統,在設備關機,淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈,延長膜壽命。

6、設備設計有膜清洗系統,用于防止膜件受阻。

7、系統無易損部件,無需大量維修,運行長期有效。

系統工藝:

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應用范圍:

1、電子、醫藥、電力、電鍍、實驗室、日化、造漆、鋰電池、化驗、制藥、玻璃、生物等領域。

2、工業品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細化工等

3、單晶硅、半導體切割制造、半導體封裝、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光纖等

4、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等

5、電力行業鍋爐補給水:熱力、火力發電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統、精尖科學用水。

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